RPS-SONIC: uma referência para a industrialização da pulverização por atomização ultrassônica de filmes finos de TCO

Na onda de industrialização da tecnologia de preparação de filme condutor transparente TCO, a RPS{0}}SONIC, com sua pesquisa e desenvolvimento tecnológico direcionado e design baseado em cenários-, tornou seu equipamento de pulverização por atomização ultrassônica uma escolha essencial de equipamento em energia fotovoltaica, displays e construção. Ele não apenas atende aos principais requisitos da indústria para "alta transmitância de luz, baixa resistência de folha e eficiência verde", mas também promove a transição da preparação de filme fino de TCO do laboratório para a produção em larga escala-por meio de controle preciso de parâmetros e operação estável.

O equipamento de pulverização por atomização ultrassônica RPS{0}}SONIC, baseado na tecnologia de atomização por vibração de alta-frequência, formou uma matriz de produtos diferenciada para as necessidades de preparação de filme fino de TCO, com suas principais características tecnológicas mostrando adaptabilidade particularmente notável à preparação de TCO. O equipamento adota principalmente dois esquemas de vibração de alta-frequência: 40kHz e 60kHz. Entre eles, o bico atomizador ultrassônico focado em 40kHz, por meio de um design especial de canal de fluxo de constrição, pode fazer com que o gás de arraste reúna e atomize uniformemente a solução precursora de TCO (como ITO, AZO, FTO sol) em gotículas uniformes de 15-40μm. O erro de uniformidade de distribuição de gotas é controlado em ±3%, o que corresponde perfeitamente aos requisitos precisos de espessura dos filmes TCO de 10nm-500nm. Para soluções precursoras de TCO de baixa-viscosidade (0 cps), o equipamento alcança controle de fluxo preciso de 0,5 a 20 ml/min. Combinado com uma altura de pulverização ajustável de 30-80 mm e um design de guia de fluxo de baixa pressão de 0,5 MPa, evita os problemas de respingos de gotas da pulverização de pressão tradicional, garantindo ao mesmo tempo uma deposição densa de gotas na superfície do substrato. Isso resulta em flutuações de resistência da folha de filme TCO controladas em ±5% e transmitância de luz visível estabilizada em 85%-95%, atendendo totalmente aos requisitos de desempenho de aplicações de ponta, como células fotovoltaicas e displays flexíveis.

Com base nas principais vantagens da preparação de filme TCO, o RPS{0}}SONIC amplifica ainda mais o valor industrial da tecnologia de atomização ultrassônica. Em primeiro lugar, o equipamento apresenta vantagens significativas na utilização de materiais e no controle de custos. Através da "atomização sem pressão" e do design de pulverização focada, a taxa de utilização da solução precursora de TCO atinge até 90%, economizando mais de 80% do consumo de material em comparação com os processos tradicionais de pulverização catódica por magnetron. Isto é particularmente benéfico na preparação de filmes finos de ITO, onde os recursos de índio são escassos, pois reduz significativamente a perda de metais preciosos, reduzindo assim os custos de produção para as empresas. Em segundo lugar, apresenta compatibilidade de substrato extremamente forte. O equipamento utiliza energia cinética de gotículas muito baixa durante a atomização, representando um processo típico de preparação-em baixa temperatura. Isso o torna adequado não apenas para substratos rígidos, como pastilhas de vidro e silício, mas também para substratos flexíveis, como PET e PI. Isso resolve os problemas dos processos tradicionais na preparação de filmes finos de TCO flexível, que levam facilmente à deformação do substrato e à degradação do desempenho, fornecendo uma solução confiável para a produção de filmes finos de TCO em áreas como telas OLED flexíveis e dispositivos vestíveis. Em terceiro lugar, combina escalabilidade e estabilidade. O equipamento suporta conjuntos de vários{13}bocais, com uma única largura de pulverização de 1-3 metros. Combinado com um design de potência ajustável de 10-100 W, ele pode atender às necessidades de pesquisa e desenvolvimento de pequenos-lotes em laboratórios, bem como à produção em larga escala de dispositivos de grande porte, como módulos fotovoltaicos e vidro arquitetônico. Além disso, o equipamento não possui peças móveis que sofram desgaste e os bicos são menos propensos a entupimentos, reduzindo o tempo de inatividade da produção e garantindo a estabilidade da produção contínua.

Em termos de aplicação na indústria, o equipamento de pulverização por atomização ultrassônica RPS{0}}SONIC estabeleceu vários casos de referência no campo de preparação de filme fino TCO. Na indústria fotovoltaica, seu equipamento é utilizado para pulverizar a camada condutora transparente AZO/TCO de células solares de perovskita. Ao controlar com precisão o tamanho das gotas e a taxa de deposição, a eficiência de conversão fotoelétrica das células é melhorada em 2-3 pontos percentuais. Atualmente, ela entrou na linha piloto de células em tandem de heterojunção de silício de-perovskita-de silício de 1 GW de uma empresa fotovoltaica nacional líder, ajudando a alcançar a produção em massa em grande escala. No campo de exibição, para a preparação de filmes compostos ITO/PET para telas OLED flexíveis, o equipamento ainda pode garantir que a taxa de mudança de resistência da folha do filme TCO seja inferior a 10% e a transmitância de luz permaneça acima de 92% em um substrato flexível com raio de curvatura de 5 mm.

Isso ajuda os fabricantes downstream a melhorar o rendimento de telas flexíveis de 75% com processos tradicionais para 88%, tornando-se um suporte de equipamento essencial para a cadeia da indústria de telas flexíveis. Na área de vidro inteligente arquitetônico, o equipamento é utilizado para a pulverização de filmes condutores transparentes AZO para vidro eletrocrômico, obtendo controle de erro de espessura de ± 2 nm. Isso resulta em uma velocidade de resposta eletrocrômica menor ou igual a 10 segundos e uma vida útil de mais de 100.000 ciclos. Ao mesmo tempo, a alta transmitância de luz e a resistência à corrosão do filme garantem a operação estável-de longo prazo do vidro inteligente, e ele tem sido aplicado à produção de janelas inteligentes em muitos-projetos de construção de alto padrão no país e no exterior. Além disso, o equipamento da Hangzhou Gonglu apresenta versatilidade excepcional, permitindo não apenas a preparação convencional de filmes finos de TCO, mas também a pulverização composta de filmes funcionais, como revestimentos anti-embaçante e anti{13}}corrosão com camadas de TCO. Por exemplo, ele pode pulverizar simultaneamente uma camada condutora transparente FTO e um revestimento anti{15}incrustante na superfície do vidro fotovoltaico, melhorando ainda mais o desempenho geral do dispositivo. No futuro, com a promoção de materiais TCO isentos de índio (como AZO e GZO) e a integração da tecnologia de inspeção visual de IA, espera-se que o equipamento da Hangzhou Gonglu atinja metas de desempenho ainda mais altas, incluindo uma transmitância de luz superior a 98% e uma resistência de folha abaixo de 5Ω/□, impulsionando continuamente a ecologização e o refinamento da tecnologia de preparação de filmes finos de TCO.

Como referência industrial na área de pulverização por atomização ultrassônica, o equipamento RPS{0}}SONIC, com seu controle preciso de parâmetros, operação estável e ampla adaptabilidade de aplicação, fornece suporte essencial para a produção em grande-escala e alta-qualidade de filmes condutores transparentes TCO. As suas soluções técnicas não só satisfazem as actuais necessidades de desenvolvimento da indústria optoelectrónica, mas também desempenharão um papel crucial na inovação tecnológica em campos emergentes, como a electrónica flexível e as novas energias no futuro.